MERKEZ LABORATUVARI


X-Işını Fotoelektron Spektrometresi (PHI)

Durum: 
Çalışıyor



XPS  :  X-Ray fotoelektron Spektroskopisi  veya Kimyasal analiz için elektron spektroskopisi (ESCA) katı materyallerin yüzeyleri hakkında kimyasal bilgi elde etmek için kullanılan gelişmiş bir yüzey analiz tekniğidir. Metod, katı örnekleri uyaran bir x-ışın demeti kullanarak fotoelektronların saçılmasını sağlar.

ESCA tayfı elementin kimyasal çevresi ve yükseltgenme durumu hakkında bilgi verir. Farklı kimyasal çevrelerle ilişkili atomlar, kimyasal kayma olarak adlandırılan düşük farklılıkta bağlanma enerjisine sahip enerji pikleri üretirler. Enerjisi birbirine yakın olan ayrı kimyasal durumlar, her bir durumun içeriğini yüzde olarak veren pik saptama programları kullanılarak birbirinden ayrılır.

PHI 5000 VersaProbe


XPS spektrometre örnek yüzeyinde ve alt tabakalarında derinlik analizine imkan sağlayan argon iyon tabancasına sahiptir.Ayrıca PHI firmasının patentine sahip olduğu çift kaynaklı yük nötrülizasyonu sayesinde örnekten örneğe ayar yapma ve yalıtkan malzemelerin maskelenmesi gereksinimi de bulunmamaktadır. X-ray beam’i 10 μm ila 200 μm arasında odaklanabilmektedir.

 

Özellikler:

Kendine özgü taramalı X-Ray görüntüleme ( SXI™)

VersaProbe cihazı kendine özgü örnek yüzeyinin X-Ray tarafından üretilmiş ikincil elektronların görüntülenmesini sağlayan görüntü sistemine sahiptir . Bu eşsiz özellik sayesinde taramalı X-Ray sayesinde üretilen elektronlar VersaProbe enerji analizatörü tarafından toplanılıp örnek yüzeyinin topolojik ve yüzey kimyası hakkında kısa sürede bilgi edinmemizi sağlar.

İon tabancası rutin ince film analizlerinde 1 ile 5 KeV aralığında yüksek tabaka kaldırma, aşındırma oranları ile kullanılabilmektedir.

Açı Bağımlı Analiz (ADXPS)

Özel olarak tasarlanmış açı bağımlı örnek tutucu ile birlikte atomatik açı bağımlı ölçümler yapılabilmektedir açı aralığı r 0° to 90°(photoelectron take-off angle) değişebilmektedir.

PHI VersaProbe motorize beş eksenli örnek örnek yükleme haznesi ile 25 mm ve 60 mm çapında örnek tutuculara sahiptir ayrıca 7 mm kalınlığa sahip örnekler analiz için kabul edilebilmektedir.

Aksesuarlar :

PHI VewrsaProbe Ultraviolet (UV) Photon Source

İlave UV kaynak bizlere düşük enerjili fotonlar sayesinde valans band ve fermi edge ölçümleri yapabilmemizi sağlar. bir veya birden fazla iyonlaştırılmış  UV foton kaynağı  için He, Ne, Ar, Kr, and Xe  gazlarından herhangi birisi kullanılabilir.

Örnek Teslim Şartları

Örnek boyutu maksimum 2 inch veya 1 inch çapında çapında bir daire aralığında olmakla beraber maksimum 7 mm kalınlıkta olabilmektedir minimum örnek boyutları için örnek kabul ofisi ile kontağa geçilmesinde fayda vardır . Örnek yüzeyleri temiz olmalı ve buhar basıncı yüksek olan maddeler içermemelidir.Teslim edilecek örnekler mutlaka birden başlamak üzere kodlanmalı ve ölçümü yapılacak yüzeyin ( Alt-Üst ) mutlaka belirtilmesi gerekmektedir.

 

Uygulamlar

  • Materyallerin ( örn. Polimer, cam) yüzeyindeki element içeriklerinin (H ve He dışında) belirlenmesi.
  • Elementlerin kimyasal durumlarının belirlenmesi.
  • Derinlik profili
  • Kimyasal durum bilgisi